拋光墊系列

拋光墊系列 (聚胺脂(PU)/不織布/絨布)

產品概述

本公司致力於提供全方位的高精密表面處理解決方案。本系列拋光墊產品線（聚胺脂、不織布、絨毛墊）具備卓越的通用性與專業性能，不僅針對 6 吋/8 吋晶圓、再生晶圓及第三代半導體 (SiC/GaN) 的減薄與平坦化製程設計，更廣泛應用於航太精密零件、自動化機械元件、各類光學玻璃、藍寶石基板、高硬度陶瓷以及精密金屬模具的拋光處理。透過精確的硬度與微孔結構控制，不論是粗磨平坦化還是鏡面精拋，皆能提供穩定的材料移除率 (RR) 與優異的表面粗化度 (Ra) 表現。

產品特點

• 聚胺脂拋光墊：
o 平坦化優勢：具備優異的剛性與微孔結構，能精確控制工件的 TTV (總厚度變異)，是 CMP 與精密平面研磨的首選。
o 耐化學侵蝕：針對多種酸鹼研磨漿料 (Slurry) 具有高穩定性，延長墊材使用壽命。
• 不織布拋光墊：
o 卓越緩衝性能：纖維結構具備高度彈性與回彈力，能均勻分散拋光壓力，適合處理大面積或對應力敏感的材料。
o 高儲液量：獨特多孔隙設計能有效儲存並均勻分佈研磨液，確保加工過程的一致性與連續性。
• 絨毛拋光墊：
o 極致鏡面效果：極細緻複合絨毛材質，專為最終精拋 (Final Polishing) 設計，能有效消除微刮傷與表面瑕疵。
o 高貼合度：柔軟材質能完美貼合各種幾何表面，確保壓力分佈極其均勻。

產品規格

項目	聚胺脂 (PU)	不織布 (Non-woven)	絨毛墊 (Velvet)
主要材質	微孔聚胺脂發泡	高強度合成纖維	複合精密絨毛
硬度範圍	60 ~ 90 Shore A	60 ~ 90 Shore A	60 ~ 75 Shore A
表面加工	平面、各式溝槽	平面、各式溝槽	平面、各式溝槽
適用尺寸	各種規格直徑	各種規格直徑	各種規格直徑

應用領域

•   半導體與先進材料： 6 吋/8 吋晶圓、再生晶圓、第三代半導體 (SiC/GaN) 基板粗磨與平坦化。
•   精密光學與光電：藍寶石基板、濾光片、導光板、光學鏡片、石英玻璃、陶瓷基板。
•   精密機械與金屬：航太零件、醫療器材配件、不鏽鋼/鋁合金零件、精密金屬模具之鏡面拋光。
•   電子零組件：硬碟基板、封裝基板以及各類電子接觸面之精密平整化。

客製化服務

我們理解每一道研磨製程皆有其獨特性，因此提供高度彈性的客製化方案：

•   多樣化溝槽設計：依漿料流動需求客製放射狀、井字型或複合溝槽，優化排屑效果。
•   複合疊層結構：提供多層結構（如 PU 貼合不織布緩衝層），平衡拋光切削力與緩衝性。
•   全規格裁切：配合各型號國產及進口研磨機台，提供精準尺寸裁切與不同黏度背膠選擇。

搭配產品

•   鑽石修整器：針對 PU 拋光墊進行表面開孔活化，恢復切削力。
•   高強度尼龍精密過濾濾袋：確保研磨液循環系統潔淨，防止大顆粒雜質造成表面刮傷。
•   低 TTV 載板 (Template)：提供客製尺寸，確保工件穩固固定。